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鍍膜技術的原理介紹

2021-08-09

  1、真空鍍膜技術是一項新興技術。直到1960年代,CVD(化學氣相涂層)技術才應用于硬質合金刀具。由于該方法需要在高溫下(工藝溫度高于1000oC)進行,且涂層類型單一,局限性很大,貴州鍍鈦加工,需要在開發初期進行改進。

    2、離子鍍的基本原理:在真空條件下,利用相應的等離子體電離技術,使鍍層原子部分電離,同時產生大量高能中性原子,對鍍層施加負偏壓。鍍層表面。因此,在深負偏壓的作用下,離子沉積在基板表面形成薄膜。

    3、PVD是一種物理氣相沉積法,分為:真空蒸發法、真空濺射法和真空離子法。PVD鍍膜通常是指真空離子鍍膜;NCVM鍍膜通常是指真空蒸發鍍膜和真空濺射鍍膜。

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    4、真空鍍的基本原理:在真空條件下,貴州鈦金廠,金屬、金屬合金等蒸發后沉積在基材表面。蒸發法通常采用電阻加熱,電子束轟擊鍍層材料蒸發成氣相,然后沉積到基板表面,PVD法在真空蒸發技術史上是首創。

    5、濺射鍍膜的基本原理:在充滿氬(Ar)氣的真空環境中,當氬(Ar)原子電離形成氬離子(Ar)時,氬離子在電的作用下會加速轟擊鍍場力。陰極靶材由材料制成,靶材會被濺射出并沉積在工件表面。濺射薄膜中的入射離子一般通過輝光放電獲得, PVD真空鍍膜,范圍在10-2Pa~10Pa之間。因此,當濺射出的粒子飛到基板上時,很容易與空氣中的氣體分子發生碰撞,使其運動。方向隨機,沉積膜容易均勻。



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