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真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

2021-07-30

 不管監控器的精度如何,它只能控制真空室中單個點的膜厚,該點一般是工件夾具的中間位置。如果真空電鍍設備該位置的膜厚不是對均勻的,那么遠離中心位置的基板將無法獲得均勻的厚度。屏蔽罩雖然可以消除長期的不均勻,但由于蒸發源的不穩定或薄膜材料的性能不同,導致薄膜厚度的一些變化幾乎不可能消除,貴州鍍鈦加工,但其結構

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    在過去的幾年里,越來越多的用戶要求鍍膜系統制造商提供高性能、小幅面、簡單的光學鍍膜系統。與此同時, PVD真空鍍膜,用戶對性能的要求并沒有降低,反而有所提高,尤其是在薄膜方面。密度并確保吸水后的光譜變化小化。

    現在,系統的平均尺寸已經縮小,應用小型設備生產光學鍍膜也變成了一個純粹的技術問題。因此,選擇現代光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的仔細考慮:鍍膜產品的預期性能、基材的尺寸和物理特性,貴州鈦金廠,以及確保高度一致性所需的所有技術因素正在進行中。



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